我国近两年在芯片范畴的开展是咱们能够看得到的，就算咱们看不到咱们也能深入的体会到，由于咱们现在所用的手机越来越智能了，还有便是家里边家庭条件好一点的人或许也能够感受到所运用的电器越来越先进越来越让人舒服了。

　　可是许多人或许知道我国现在所研发出的芯片真的是越来越先进了，可是我国却暂时还不具有出产这些先进芯片的才能，其实首要的原因便是咱们在光刻机这个范畴遇到了许多的难题，咱们到现在都还没有悉数处理。

　　榜首是由于我国现在身上光刻机的技能比较落后，只能够出产90纳米芯片的光刻机，第二，我国不是不想获得成果，而是在向其他国家学习光刻机的技能时受到了一些国家的故意阻遏。

　　综上所述，假如我国想要在光刻机方面获得前进，那么咱们就需求靠自己的尽力去从其他地方找突破口。

　　咱们或许不知道，光刻机他有三种光源，最开始运用的是汞灯光源，然后来用了DUV光源，现在用的便是EUV光源。

　　当然现在，相关范畴的科研人员现已发现了，假如能够把握滋润式技能不需求EUV光源，国产光刻机也有望进入10nm，这是由于台积电三星这样的芯片出产巨子现已验证了，滋润式技能带来的优点。

　　把握滋润式技能从字面上来了解特别的简略，但假如真实的要去把握这一个技能的话，我国仍是需求做出很大的尽力才能够，究竟咱们现在只能够出产出90纳米的光刻机与其他国家差了好几代，想要跨出这一步使得其他国家关于我国的开展没有影响那是比较困难的。

　　又加上现在美国还出台了一些禁令，让一些境外企业不敢向我国供给资料和一些技能，可是，这至少阐明国产光刻机有望进入10nm，咱们只需求把握滋润式技能即可。

　　假如你对我国的光刻机研发有什么见地，你也能够谈论出来，究竟许多的主意有时候虽然是天马行空的，可是实践做出来的成效仍是挺好的。