芯片自产自足一直是我国在芯片上的重要方针，原本国家在这一方针的方案是于2025年开端完结。可是这两年我国芯片范畴从原料到设备再到出产都遭到了老美的封闭约束，整个工业链遭到全方面的冲击，也造成了国内芯片技能打破困难，产能难以添加的状况。在这样的局势下，许多人关于芯片在2025年完结自产自足现已不抱什么等待，更多人以为这一时限需求再往后推延数年。

　　跟着老美进一步制裁，现在高端的光刻机现已被制止向国内出售。台积电打算在南京建厂也由于拿不到解封令，不能将设备搬迁至国内。眼下来看，没有高端光刻机进入国内，芯片出产的窘境仍是很严重。

　　搞定13.5nm光源！DUV光刻机、14nm芯片量产都在路上了。最近我国内打破了一项技能，或许会给半导体工业带来的新的起色，可以处理现在的首要困难。这项技能便是光刻机运用的光源，在芯片的制作过程中，需求在芯片上不断雕琢，而雕琢的“笔”便是光源。

　　光源在芯片的出产中有着无足轻重的方位，没有光源就无法出产芯片，一起，光源也影响到芯片的工艺水平。现代光刻机运用的光源现现已过了许屡次的更新换代，从近紫外光到深紫外光再到极紫外光，对应着一开端的初代二代光刻机，到现在的DUV光刻机和EUV光刻机，技能一直在前进之中。这些光源的更新有一个重要的特性便是波长不断变短，波长越短，芯片制程水平越高，现在最先进的EUV光刻机可以完成12nm-5nm的芯片制作。而现在世界上运用的最先进的芯片包含苹果的A14仿生芯片和华为的麒麟9000等都是运用的5nm芯片制程工艺。尽管说三星现已制作出了3nm制程工艺的芯片，但能否运用仍是一个未知数。

　　依据国内知情人员报导，我国现在现已处理了13.5nm的光源，也就意味着在出产14nm芯片这个要害工艺上，我国现已处理了光源这个中心难题。而最近，国内科研大牛也表明，在下一年年末国内可以完成14nm芯片的规划出产。这或许意味着我国不只把握了13.5nm光源技能，也把握了DUV光刻机其他各种技能，可以在下一年就完成国产DUV光刻机的出产。如果在下一年年末完成14nm芯片的规划化出产，关于我国的芯片窘境必定很有大的协助。

　　应该了解的是，这一次14nm芯片的规划量产不是简略地运用已有的光刻机进行出产，而是运用国产光刻机进行出产。现在我国不是没有出产14nm芯片的技能，依据中芯世界的音讯，我国能危险量产7nm芯片，可是有才干不代表着可以完成量产，由于咱们没有自己的光刻机。而这一次，国内闻名大牛所泄漏的音讯却是纷歧样，这说明我国在下一年会把握一条自主的14nm芯片工业链。所以这不只意味着对我国芯片窘境有很大助力，也代表这条芯片工业链难以被老美制裁针对。

　　好音讯！光源取得打破，国产14nm芯片下一年末将量产。不过我国尽管行将处理14nm的问题，可是间隔顶尖芯片技能还差得很远，前面也说了顶尖的EUV光刻机可以出产5nm芯片，而IPhone12的发布也意味现在芯片制作商们现已开端量产5nm芯片。从14nm到5nm，中心至少隔了7nm的技能门槛，所以我国和世界上顶尖的芯片制程工艺还差许多。我国想要短期内完成技能打破，建造更先进制程工艺的芯片工业链，却是不太或许。由于EUV光刻机和DUV光刻机之间的距离不是一点半点，我国才刚刚可以出产DUV光刻机，没有个几年底子没或许打破EUV光刻机，并且就算有几年的时刻，也纷歧定可以顾出产出来EUV光刻机。

　　不过咱们也不必如此失望，究竟EUV光刻机现在的运用并不遍及，商场上所运用的芯片也大部分都归属28nm以下的工艺，现在国内14及其以下芯片占有了商场百分之八十以上，而7nm，5nm芯片这样的技能，还需求许多年才干成为商场干流，具有更多的商场占有额。

　　所以咱们只需可以完成14nm芯片的量产，便可以很快到达2025年自给自足的方针，到时我过也不必在老美的制裁之下如此地难过和担惊受怕，也是可以在世界芯片商场站稳脚跟。以我国榜首芯片消费国的方位，国内商场可以自给自足，就现已可以为国内的半导体职业带来满足的机会和赢利，有助于他们在安稳中逐步打破芯片技能，终究完成追逐甚至反超的方针。